Source de plasma ponctuelle : travail de bachelor : diplôme 2016
SONAR|HES-SO
- Cordonier, Yohan
- Ellert, Christoph (Degree supervisor)
-
2016
Mémoire de bachelor: Haute Ecole d'Ingénierie, 2016
Application de la physique des plasmas
Electronique de puissance
Bancs d'essais + laboratoires d'essais + installations de tests (technique de mesure électrique)
French
De nos jours, les sources de plasma sont utilisées par de nombreuses technologies issues de la production industrielle, par exemple : pour la production de semi- conducteur, le traitement des matériaux, la découpe du verre ou la séparation des molécules composant un gaz. Le premier objectif de ce travail de diplôme est de designer et concevoir la mécanique d’un dispositif permettant la génération de plasma dans une source ponctuelle. Pour ce projet, des trous submillimétriques sont utilisés comme source ponctuelle afin d’exploiter le principe de cathode creuse.
- Language
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- French
- Classification
- Electronics
- Notes
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- Haute Ecole d'Ingénierie Valais
- Systèmes industriels - Systemtechnik
- Power and Control
- hesso:heivs
- License
- License undefined
- Identifiers
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- RERO DOC 288032
- Persistent URL
- https://folia.unifr.ch/global/documents/317528
Statistics
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